晶圓旋乾機 Spin Rinse Dry

水平式旋乾機 SH Model

晶圓旋乾機 Spin Rinse Dry - 圖片 1
產品分類
水平式旋乾機 SH Model
產品描述

晶圓旋乾機主要應用於晶圓(Wafer)、基板及玻璃等清洗後乾燥,是半導體製程中關鍵且重要的其一設備。原理利用高速旋轉將產品表面水珠快速脫離產品,再使用乾燥氣體(N₂)吹拂,達到產品快速且穩定支乾燥效果。

SV Model為直立式旋乾機,可選擇SV-702、SV-805、SV-802及SV-300針對不同產品對應符合使用機型。SH Model為水平式旋乾機,最大可支援6吋4工位產品使用,最高可一次旋轉100片晶圓(產品),增加產線生產效率。

產品特色
  • 全球獨家馬達(電機)適合長時間連續運轉
  • 淨化、速控、溫控、靜電離子控管
  • 客製化轉子設計具有低振動表現
  • 整合式TFT全彩觸控介面提供各項設備資訊
  • 可支援GEM / SECSII通信協定

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